Исследователи из МФТИ с коллегами впервые продемонстрировали, что рельеф подложки из гексагонального нитрида бора можно использовать для детерминированного управления формой и расположением нанокристаллов нитрида алюминия, выращиваемых методом вандерваальсовой эпитаксии.